世界最大手の最新装置故障で
半導体製造復活狙う日本勢

最新のＥＵＶ（極端紫外線）露光装置が故障した──。2月下旬、米カリフォルニア州で開催された国際光工学会。次世代の半導体製造技術の動向に注目する参加者の間で“隠れた大ニュース”になったのは、半導体製造大手、台湾TSMCの幹部の言葉だった。