半導体の性能を高めてきた回路の“微細化”は一時、限界もささやかれていたが、近年、現行の技術の壁を打ち破る道が開けてきた。微細化に欠かせない製造技術「EUV(極端紫外線)露光」が一段と進化しようとしているのだ。にわかに脚光を浴びる「次世代EUV」に必須の装置や素材を供給する日本企業3社を紹介する。
続きを読むTSMC、インテルも注目!半導体業界待望「次世代EUV」に不可欠な日本の最強技術企業【3社】
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