“2ナノ半導体”製造に欠かせない「EUV」関連銘柄を解説！ ラピダスの2ナノ半導体の開発を支える「EUV露光装置」は次世代半導体製造に必要な標準的技術に！

国内の半導体メーカー・ラピダスが、世界のどの企業も
量産化を実現していない「2ナノ半導体」の試作に成功！

　最先端半導体の国産化を目指す半導体製造会社のラピダスは、7月18日に国内で初めて「2ナノ半導体」の試作に成功したと発表しました。

　2ナノ半導体は、回路線幅が2ナノメートル（100万分の2ミリメートル）相当の「次世代半導体」です。半導体は回路が繊細であるほど性能を向上させることが可能で、現在量産化が実現している最先端製品が3ナノ半導体となります。2ナノ半導体の量産化は世界のどの企業も成し遂げていないことから、ラピダスの成功は大きな注目を集めています。
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　ラピダスが2ナノ半導体の試作が成功した背景には「EUV露光技術」の導入があります。半導体の性能を向上させる「微細化」の技術は日進月歩で進化していますが、そんななか、EUV露光技術は従来の方法では難しかった7ナノ以下の微細化を実現する画期的な技術として期待されています。

極短波長の光で回路パターンを転写する「EUV露光技術」は、
「7ナノ以下の半導体」の量産に必要不可欠な最先端技術！

　EUV露光技術は、約13.5ナノメートルという短い波長の光「極端紫外線（EUV）」を使用して、微細な回路パターンをシリコンウェーハ上に転写する技術のことです。実用化の難易度が高く、現在、オランダの半導体製造装置メーカー・ASMLホールディングが、世界で唯一、商業用EUV露光装置を製造しています。ラピダスが使用しているEUV露光装置は、導入価格が500億円と極めて高額ですが、この装置なしに7ナノ以下の半導体の量産は不可能です。

　現時点で、EUV露光装置を使ってチップを量産している半導体メーカーは米国のインテル（INTC）、韓国のサムスン電子、台湾のTSMC（TSM）の3社のみで、いずれも2025年に2ナノ半導体の量産にこぎつける予定で、さらに2026～2027年により微細な1ナノ半導体の量産を見込んでいます。

　EUV露光技術は今後、半導体製造における標準的な技術として定着していくと予想されます。EUV露光技術の開発が進めば、さらなる微細化が可能となり、より複雑で高性能な半導体が登場するでしょう。そうした最先端の半導体は、AIや量子コンピューター、バイオテクノロジーなどの分野で、次世代技術を支える基盤となることが期待されます。

　そこで今回は、次世代半導体の製造に欠かせない「EUV（極端紫外線）」関連銘柄を紹介します。日本企業はEUV露光技術に関連する部品や材料の供給で重要な役割を果たしており、そうした企業のなかから有力と思われる銘柄を選定しました。

【ジェイテックコーポレーション（3446）】
EUV活用に関して兵庫県立大学と包括連携協力を締結

　ジェイテックコーポレーション（3446）は、オプティカル事業として、ナノメートル単位の精度を実現し、優れた放射光X線の集光特性を有する高精度X線ミラーを提供。このX線ミラーはEUV向けとしても使用されます。また、7月3日に兵庫県立大学と包括連携協力を締結したことを発表。EUVの活用に向けて新たな学術研究を推進していくとのことです。株価は直近で13週・26週移動平均線を割り込んでおり、下値の堅さを見極めながらの押し目狙いのスタンスで。

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【AGC（5201）】
EUV露光技術の中核をなすEUVマスクブランクスを製造

　AGC（5201）はガラス事業のほか、電子事業、化学品事業、ライフサイエンス事業、セラミックス事業などを展開。2017年からEUV露光用フォトマスクブランクスを生産しています。EUV露光用マスクブランクスはガラス基板の表面に膜を積層したフォトマスクの原版で、EUV露光技術の中核となる重要部材です。株価は、長らく26週移動平均線に上値を抑えられる形での調整トレンドが続いていますが、足元では4200円辺りでの底堅さが見らるため、同線突破から上昇トレンドへの転換に期待したいところです。

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【東京応化工業（4186）】
EUV用フォトレジストに関しては世界シェア30％！

　東京応化工業（4186）は、フォトレジスト（感光性樹脂）の大手メーカーです。フォトレジストは半導体チップ内部にあるトランジスタや微細な配線を形成する工程に使用される化学薬品で、EUV用フォトレジストに関しては同社が世界シェアの30％を占めています。株価は上昇トレンドが続き、6月末には4274円まで買われましたが、その後は調整を見せています。足元で下値支持線として意識される13週移動平均線に接近しており、押し目狙いの好機と言えるでしょう。

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【HOYA（7741）】
半導体製造用マスクブランクスで高いシェアを保持

　HOYA（7741）はメガネレンズやコンタクトレンズのほか、半導体の回路の原版となるフォトマスクやマスクブランクスなどを手掛けています。半導体製造用マスクブランクス市場で長年にわたって非常に高いシェアを保持しており、EUV用のマスクブランクスでも業界をリードすることが見込まれます。株価は足元でリバウンドを見せており、26週移動平均線に続いて52週移動平均線も突破。ここからのさらなる上昇に期待したいところです。

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【信越化学工業（4063）】
最先端のリソグラフィ技術に対応したフォトレジストを提供

　信越化学工業（4063）は、塩ビ樹脂と半導体シリコンの両分野で世界トップシェアを有しています。最先端のリソグラフィ技術に対応したフォトレジストや、微細加工プロセスで用いられるレジスト用塗布型の中間・下層膜材料などを提供しています。株価は足元でリバウンドが続いており、13週・26週移動平均線を突破。両線を下値支持線とした上昇からの52週移動平均線の突破が意識されます。

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【レーザーテック（6920）】
EUVパターンマスクの欠陥検査装置「ACTISシリーズ」を開発

　レーザーテック（6920）は、光応用技術を中核技術とした半導体向け検査・計測装置を主力事業としています。世界初となる製品を数多く生み出しており、近年では世界初のEUV光源を用いたアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTISシリーズ」を開発しました。株価は足元で調整を見せており、13週・26週移動平均線水準での押し目を狙いたいところです。

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　以上、今回は最先端半導体の製造に不可欠な「EUV」関連銘柄を発掘しました。

　米国の市場調査会社のフォーチュン・ビジネスインサイトは、世界のEUV露光装置の市場規模は2025年の1216億米ドル（約17兆8700億円）から年平均10.3％で成長し、2032年には2423億米ドル（約35兆6000億円）になると予測しています。

　なお、「EUV」関連銘柄は、今後「ラビダス」関連銘柄と呼ばれる可能性もあるので、新たに銘柄を探す際は、そちらの名称でもチェックしておくといいでしょう。
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